[宏潔水務]水處理系統中各階段加藥原理說明

鍋爐水處理加藥系統

1、氨:調節PH值

2、聯氨:除氧

這2種藥劑通過加藥泵送至除氧器，調節給水的PH值及去除水中的氧。

3、磷酸鹽(磷酸三鈉)直接加至鍋爐汽包內。亦是調節PH防結垢。

所有的藥劑總的功能就是為了盡量減少鍋爐內部管系的結垢及腐蝕。

原水箱添加(次氯酸鈉，NaOC) :漂白分的化學名稱是次氯酸鹽(次氯酸鈉，NaOCI), 它是強氧化劑,也是廉價易得的滅菌劑。它的殺菌作用是次氯酸鈉分解為次亞氯酸，后者不穩定， 在水溶液中分解為新生態氧和氯， 使細菌受強烈氧化作用而導致死亡，對殺死細菌和噬菌體均有效。

預處理前添加絮凝劑:絮凝劑主要有無機絮凝劑，有機高分子 絮凝劑和微生物絮凝劑，都主要是處理各種污水用的，具體有機高分子絮凝劑在處理煉油廢水，其它工業廢水， 高懸浮物廢水及固液分離中陽離子型絮凝劑有著廣泛的用途。特別是丙烯酰胺系列有機高分子絮凝劑以其分子鎬,絮凝架橋能力強而顯示出在水處理中的優越性。微生物絮凝劑絮凝范圍廣、絮凝活性高，而且作用條件粗放,大多不受離子強度、 pH值及溫度的影響，因此可以廣泛應用于污水和工業廢水處理中。加入絮凝劑就是使水與雜質快速、比較徹底的分離開來。

超濾反洗加藥:氫氧化鈉、 鹽酸、次氯酸鈉

氫氧化鈉和次氯酸鈉不反應而鹽酸與次氯酸鈉發生HCL +NACLO=NACL+HCLO且在酸性條件下HCLO不穩定容易生成CL2有毒有安全隱患，鹽酸與氫氧化鈉中和反應，所以不能一起投加，然后次氯酸鈉主要是氧化殺菌作用，微生物為有機物，堿洗主要消除有機物，堿有軟化、松動沉積物的作用，所以兩者合用效果更佳,堿洗使垢露出應該也有利于后續酸洗消

除無機鹽沉積。先酸洗還是 先堿洗主要看膜污染物的種類

反滲透加藥:壓泵進口加阻垢劑，RO進水前添加 NAHS03還原劑: (常用的還原劑亞硫酸氫鈉)

為確保反滲透裝置長期穩定運行，防止膜表面受微生物氧化劑及 懸浮雜質的污染損壞，在RO進水前進行氧化劑的還原加藥處理, 消除氧化劑對膜的影響;為防止膜表面結垢，降低膜的除鹽性能，在每套高壓泵的進口均設置阻垢劑加藥系統，以提高膜的產水通量。

在一級反滲透中加堿使用較少。在反滲透進水中注入堿液用來提高pH。- 般使用的堿劑只有氫氧化鈉( NaOH)，購買方便，而且易溶于水。-般不含其他添加劑的工業級氫氧化鈉便可滿足需要。商品氫氧化鈉有100%的片堿，也有20%和50%的液堿。在加堿調高pH時-定要注意，pH升高會增加 LSI、降低碳酸鈣及鐵和錳的溶解度。最常見的加堿應用是二級RO系統。

在二級反滲透系統中，-級RO產水供給二級RO作為原水。二級反滲透對一級反滲透產水進行“拋光"處理，二級RO產水的水質可達到4兆歐。

在二級RO進水中加堿有4個原因:

a.在pH8.2以上， 二氧化碳全部轉化為碳酸根離子,碳酸根離子可以被反滲透脫除。而二氧化碳本身是-種氣體,會隨透

過液自由進入RO產水,對于下游的離子交換床拋光處理造成不當的負荷。

b.某些TOC成分在高pH下更容易脫除。

c.二氧化硅的溶解度和脫除率在高pH下更高(特別是高于9時)。

d.硼的脫除率在高pH下也較高(特別是高于9時)。加堿應用有一個特例，通常被叫做HERO (高效反滲透系統) 過程，將進水pH調到9或10。一-級反滲透用來處理苦咸水， 苦咸水在高pH下會有污染問題(比如硬度、堿度、鐵、錳等)。預處理通常采用弱酸性陽離子樹脂系統和脫氣裝置來除去這些污染物。

RO及NF進水中的游離氯要降到0.05ppm以下,才能達到聚酰胺復合膜的要求。除氯的預處理方法有兩種，粒狀活性炭吸附和使用還原性藥劑如亞硫酸鈉。在小系統(50 - 100gpm)中-般采用活性碳過濾器，投資成本比較合理。推薦使用酸洗處理過的優質活性炭，去除硬度、金屬離子,細粉含量要非常低，否則會造成對膜的污染。新安裝的碳濾料-定要充分淋洗，直到碳粉被完全除去為止，一 般要幾個小時甚至幾天。 我們不能依靠5μm的保安過濾器來保護反滲透膜不受碳粉的污染。碳過濾器的好處是可以除去會造成膜污染的有機物，對于所有進水的處理比添加藥劑更為可靠。但其缺點是碳會成為微生物的飼料，在碳過濾器中茲生細菌, 結果是造成反滲透膜的生物污染。

亞硫酸氫鈉

亞硫酸氫鈉(SBS) 是較大型RO裝置選用的典型還原劑。將固體偏亞硫酸氫鈉溶解在水中配制成溶液，商品偏亞硫酸氫鈉的純度為97.5 - 9%，干燥儲存期6個月。SBS溶液在空氣中不穩定，與氧氣發生反應,所以推薦2%的溶液的使用期為3- 7天，10 %以下的溶液使用期為7- 14天。從理論上講，1.47ppm的SBS (或0.70ppm偏亞硫酸氫鈉)能夠還原1.0ppm的氯。設計時考慮到工業苦咸水系統的安全系數，設定SBS的添加量為每1.0ppm氯1.8 - 3.0ppm。SBS的注入口要在膜元件的上游，設置距離要保證在進入膜元件有29秒的反應時間。推薦使用適當的在線攪拌裝置(靜態攪拌器)。

如果在預處理中使用了陽離子混凝劑或助濾劑，在使用陰離子性阻垢劑時要特別注意。會產生-種粘稠的粘性污染物，污染會造成操作壓力增加，且這種污染物清洗非常困難。

六偏磷酸鈉

六偏磷酸鈉(SHMP )是早期在反滲透中使用的-種普通阻垢劑，但隨著專用阻垢劑的出現，用已經大大減少了。

SHMP的使用有一些限制。 每2 - 3天要配制一-次溶液，因為暴露在空氣中會水解，發生水解后不僅會降低阻垢效果，而且還會造成磷酸鈣結垢的可能性。使用SHMP可減少碳酸鈣結垢，LSI 可達到+ 1.0 。

阻垢劑

阻垢劑阻礙了RO進水和濃水中鹽結晶的生長，因而可以容許難溶鹽在濃水中超過飽和溶解度。阻垢劑的使用可代替加酸,也可以配合加酸使用。有許多因素會影響礦物質結垢的形成。溫度降低會減小結垢礦物質的溶解度(碳酸鈣除外， 與大多數物質相反，它的溶解度隨溫度升高而降低)，TDS的升高會增加難溶鹽的溶解度 (這是因為高離子強度干擾了晶種的形:

成)。

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