一．    設備簡介
      半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、中國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。 宏潔水務在滿足用戶用水標準的基礎上，在設備系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

二．    設計標準及依據

1. 根據用戶提供的詳細水質報告“量身定制”。

2. 水處理設備技術條件《JB/T 2932-1999》

3. 反滲透水處理設備標準《CJ/T119-2000》

4. 低壓開關設備和控制設備成套裝置《IEC439-1 》

5. 實驗室超純水技術指標標準《GB6682-2008 》

6. 電子級超純水規格《GB/T11446.1-1997》

三．    工藝流程

1、 原水－原水加壓泵－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器－精密過濾器－級反滲透－PH調節－中間水箱－級反滲透－純化水箱－純水泵－EDI系統－超純水箱－純水泵－拋光裝置－終端超濾－用水點

四．    設計特點

1. 系統采用全自動控制(同時亦可采用手動控制），系統運行時可設定自動反洗、再生程序；

2. 各單元接線均在工廠內完成，減少安裝調試時間；

3. 一級反滲透和二級反滲透設有回流管道，反滲透設備設有化學清洗裝置；

4. 管道一般采用UPVC材質；

5. 集成控制系統和集成儀表系統等，方便操作管理；

6. RO膜定時清洗 具有開機和定時清洗RO