電鍍涂裝反滲透設備概述

電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗。

電鍍涂裝反滲透設備主要用于電鍍涂裝用水的純水制取，通常系統由預處理系統、超濾裝置、反滲透裝置、EDI裝置等組合而成，以滿足電鍍行業對水質的要求。

技術原理
EDI (連續電解除鹽技術) ：是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。EDI設施的除鹽率可以高達99%以上，如果在EDI之前使用反滲透設備對水進行初步除鹽，再經EDI除鹽就可以生產出電阻率高達15MΩ. CM以上的超純水。

FEDI：獨立的分段設計，進水要求低，產水電導率40us/cm以下的單級反滲透既可以滿足供水要求。使用不同的電壓驅動，對強弱離子分離去除，為去離子創造良好條件，產水導電率可達0. 1us/cm以下。濃水可回收至反滲透系統，綜合回收率高達90%-95%。

拋光混床：一般情況用在工藝末端，用來進一步提高產水水質。采用高交換容量、充分再生、無化學析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質，使水質達到18MΩ. CM以上。


電鍍涂裝反滲透設備進水水質要求

電鍍涂裝反滲透設備參數

電鍍涂裝反滲透設備特性

1、產水水質高，出水穩定

2、連續不間斷制水，不因再生而停機

3、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能

4、不須酸堿再生，無污水排放，無酸堿再生設備和化學藥品儲運

5、先進的膜保護系統，關機時可自動沖洗膜面污染物，延長膜使用壽命

6、能耗低，水利用率高，運行費用及維修成本低

7、設備結構緊湊，占地面積小，節省基建投資